国产半导体设备龙头（拓荆科技）冲科创板

半导体设备厂商拓荆科技股份有限公司（以下简称“拓荆科技”）申报科创板IPO已获受理。拓荆科技主营业务为半导体薄膜沉积设备的研发、生产和销售，其主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个系列。

2018年-2020年，拓荆科技营收增长较快，从7064.4万元增长至4.36亿元，复合增长率达148.32%。

本次IPO拓荆科技计划募资10亿元，计划分别用于高端半导体设备扩产、先进半导体设备的技术研发与改进、ALD设备研发与产业化和补充流动资金4个项目。

目前拓荆科技的产品已广泛应用于国内的28/14nm逻辑芯片、19/17nm DRAM芯片和64/128层3D NAND FLASH晶圆制造产线，并开始了10nm及以下制程产品验证测试。

《拓荆科技招股书》