商用机器人通用底盘
 
 
    当前位置:首页 > 融资信息
 

打破国外CMP设备垄断!华海清科科创板IPO顺利过会

来源:华海清科股份有限公司      时间:2021/6/22

华海清科成立于2013年,是天津市政府与清华大学践行“京津冀一体化”国家战略,为推动我国化学机械抛光(CMP)技术和设备产业化成立的高科技企业。目前华海清科已经成为一家拥有核心自主知识产权的高端半导体设备制造商,主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售及技术服务,主要产品为化学机械抛光(CMP)设备。

应用于集成电路领域的设 备通常可分为硅片制造设备、前道工艺(芯片加工)设备和后道工艺(封装测试) 设备等三大类。其中,在芯片制造前道工序中,主要包括光刻、CMP、刻蚀、薄膜和掺杂五大关键工艺技术,对应的专用设备主要包括光刻设备、CMP设备、刻蚀设备、薄膜沉积设备、离子注入设备等。

招股书显示,目前华海清科自主研发并生产的 CMP 设备已成功进入中芯国际、长江存储、华虹集团、英特尔、 长鑫存储、厦门联芯、广州粤芯、上海积塔等行业知名集成电路制造企业,取得了良好的市场口碑,与客户建立了良好的合作关系。


《华海清科招股书 》



信息推荐
 
 
   机器人底盘
 
水滴2系列机器人底盘
云海系列机器人底盘
 
   近期动态